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离子束辅助轰击对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响
, PP. 273-276
Keywords: 离子束 ,TiAlN膜层 ,电弧离子镀 ,显微硬度 ,表面形貌
Abstract:
采用俄罗斯UVN0.5D2I离子束辅助电弧离子镀沉积设备，在高速钢W18Cr4V基材上沉积TiAlN膜层;利用N离子束对膜层沉积之前的预处理和膜层沉积时的辅助轰击，并用SEM、X射线衍射和力学测试等手段研究了N离子束轰击对膜层表面形貌、相结构、显微硬度影响.结果表明N离子束的预处理在基材表面形成了一定厚度N的过渡层；N离子束对膜层的辅助轰击，明显地降低了膜层表面“大颗粒”的密度，改善了膜层的表面形貌；同时，形成了由过渡层成分与膜层成分动态混合的扩散层；无N离子轰击时，TiAlN膜层是由（TiAl）N相和Ti2AlN相组成；轰击能量为7.5keV时，TiAlN膜层也是由（TiAl）N相和Ti2AlN相组成，但（TiAl）N(111)取向减弱，而(200)和(220)取向均增强；Ti2AlN(211)及(301)取向均减弱.N离子束辅助轰击，使膜层的显微硬度由原来的21GPa提高到25.3GPa.
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