%0 Journal Article
%T 离子束辅助轰击对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响
%A 吕树国
%A 刘常升
%A 李玉海
%A 张罡
%A 毕监智
%A 金光
%J 腐蚀科学与防护技术
%P 273-276
%D 2009
%X 采用俄罗斯UVN0.5D2I离子束辅助电弧离子镀沉积设备，在高速钢W18Cr4V基材上沉积TiAlN膜层;利用N离子束对膜层沉积之前的预处理和膜层沉积时的辅助轰击，并用SEM、X射线衍射和力学测试等手段研究了N离子束轰击对膜层表面形貌、相结构、显微硬度影响.结果表明N离子束的预处理在基材表面形成了一定厚度N的过渡层；N离子束对膜层的辅助轰击，明显地降低了膜层表面“大颗粒”的密度，改善了膜层的表面形貌；同时，形成了由过渡层成分与膜层成分动态混合的扩散层；无N离子轰击时，TiAlN膜层是由（TiAl）N相和Ti2AlN相组成；轰击能量为7.5keV时，TiAlN膜层也是由（TiAl）N相和Ti2AlN相组成，但（TiAl）N(111)取向减弱，而(200)和(220)取向均增强；Ti2AlN(211)及(301)取向均减弱.N离子束辅助轰击，使膜层的显微硬度由原来的21GPa提高到25.3GPa.
%K 离子束
%K TiAlN膜层
%K 电弧离子镀
%K 显微硬度
%K 表面形貌
%U http://www.cspt.org.cn/CN/abstract/abstract8829.shtml