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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
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射频磁控溅射钛镀层与陶瓷界面的X射线光电子能谱研究
, PP. 41-44
Keywords: 钛镀层,氧化铝,氧化镁,X射线光电子能谱
Abstract:
本文采用XPS配合Ar+离子原位刻蚀研究了用射频磁控溅射法制备Ti/Al2O3(0001),Ti/Al2O3(多晶)和Ti/MgO(001)体系的界面结构。结果表明,在Ti/Al2O3体系的界面处存在Al3+的还原态和Ti的氧化态,且在刻蚀过程中,Al3+的还原态出现在Ti的氧化态之前。用相同方法制备的Ti/MgO界面没有产生类似的界面反应。
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