%0 Journal Article
%T 射频磁控溅射钛镀层与陶瓷界面的X射线光电子能谱研究
%A 张汉林
%A 刘韩星
%A 王典芬
%A 欧阳世翕
%A 袁润章
%A 任海兰
%J 复合材料学报
%P 41-44
%D 1997
%X 本文采用XPS配合Ar+离子原位刻蚀研究了用射频磁控溅射法制备Ti/Al2O3(0001),Ti/Al2O3(多晶)和Ti/MgO(001)体系的界面结构。结果表明,在Ti/Al2O3体系的界面处存在Al3+的还原态和Ti的氧化态,且在刻蚀过程中,Al3+的还原态出现在Ti的氧化态之前。用相同方法制备的Ti/MgO界面没有产生类似的界面反应。
%K 钛镀层
%K 氧化铝
%K 氧化镁
%K X射线光电子能谱
%U http://fhclxb.buaa.edu.cn/CN/abstract/abstract10952.shtml