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有机化学 2003
铼联吡啶配合物的电喷雾质谱研究有机化学, PP. 1135-1138 Keywords: 电喷雾质谱,联吡啶P,羧酸酯,吡啶P,噻吩P,光敏染料 Abstract: 利用电喷雾质谱(ESI-MS)对2,2'-联吡啶-4,4'-二羧酸乙酯与过渡金属铼的系列配合物[(4,4'-(OOEt)_2-bpy)Re(CO)_3RPF_6][其中bpy=2,2'-联吡啶,R=吡啶、4-甲基吡啶、4-羟基吡啶、4-氨基吡啶、10-(4-甲基吡啶基)吩噻嗪(py-PTZ)进行分析,研究了配合物及其配体在不同源内CID(in-sourcecollisioninduceddissociation,in-sourceCID)的相对稳定性。结果表明,随着源内CID电压的升高,配合物中的配体R容易脱落并形成稳定的联吡啶三羰配位离子[(4,4'(COOEt)_2-bpy)Re(CO)_3]~+。配体脱落从易到难的顺序为:吡啶>4-甲基吡啶>-甲基吡啶>4-羟基吡啶>4-氨基吡啶>py-PTZ。
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