%0 Journal Article
%T 铼联吡啶配合物的电喷雾质谱研究有机化学
%A 孙世国
%A 彭孝军
%A 张蓉
%A 孙立成
%J 有机化学
%P 1135-1138
%D 2003
%X 利用电喷雾质谱（ESI-MS）对2，2'-联吡啶-4,4'-二羧酸乙酯与过渡金属铼的系列配合物[（4,4'-(OOEt)_2-bpy)Re(CO)_3RPF_6][其中bpy=2,2'-联吡啶，R=吡啶、4-甲基吡啶、4-羟基吡啶、4-氨基吡啶、10-（4-甲基吡啶基）吩噻嗪（py-PTZ）进行分析，研究了配合物及其配体在不同源内CID(in-sourcecollisioninduceddissociation,in-sourceCID)的相对稳定性。结果表明，随着源内CID电压的升高，配合物中的配体R容易脱落并形成稳定的联吡啶三羰配位离子[(4,4'(COOEt)_2-bpy)Re(CO)_3]~+。配体脱落从易到难的顺序为：吡啶>4-甲基吡啶>-甲基吡啶>4-羟基吡啶>4-氨基吡啶>py-PTZ。
%K 电喷雾质谱
%K 联吡啶P
%K 羧酸酯
%K 吡啶P
%K 噻吩P
%K 光敏染料
%U http://sioc-journal.cn/Jwk_yjhx/CN/abstract/abstract327449.shtml