Structural Change of Single Crystal MoS2 and MoS2 Lubrica ting Coatings Deposited with Various Techniques during Ar+ Ion Etching in XPS and AES Analysis
Ar^＋刻蚀对MoS2润滑膜分子结构的影响

Keywords: 氩离子溅射,择优刻蚀,XPS,AES,二硫化钼润滑膜

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Abstract:

采用Ar^ 离子溅射源进行XPS和AES剖面分析，结果发现，Ar^ 对MoS2分子中的S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的MoSx,Mo原子被还原，Mo3d结合能值向低端位移约1．7eV。应该注意的是，采用Ar^ 溅射进行XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态，S／Mo原子比同实验值之间亦存在差异，故应采用有关软件对实验结果进行修正。

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