%0 Journal Article
%T Structural Change of Single Crystal MoS2 and MoS2 Lubrica ting Coatings Deposited with Various Techniques during Ar+ Ion Etching in XPS and AES Analysis<br>Ar^＋刻蚀对MoS2润滑膜分子结构的影响
%A QI Shang-kui
%A <br>齐尚奎
%A 余平贵
%J 摩擦学学报
%D 2001
%I 
%X 采用Ar^ 离子溅射源进行XPS和AES剖面分析，结果发现，Ar^ 对MoS2分子中的S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的MoSx,Mo原子被还原，Mo3d结合能值向低端位移约1．7eV。应该注意的是，采用Ar^ 溅射进行XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态，S／Mo原子比同实验值之间亦存在差异，故应采用有关软件对实验结果进行修正。
%K 氩离子溅射
%K 择优刻蚀
%K XPS
%K AES
%K 二硫化钼润滑膜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=5D344E2AD54D14F8&jid=2F467A5C6371C830162AAA01D7DAD07A&aid=DF0F4D6580EE4509&yid=14E7EF987E4155E6&vid=659D3B06EBF534A7&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=F4B561950EE1D31A&eid=771152D1ADC1C0EB&journal_id=1004-0595&journal_name=摩擦学学报&referenced_num=0&reference_num=7