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ISSN: 2333-9721
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科学通报  1989 

BF_2~+分子离子注入硅中的硼原子深度分布的核反应分析研究

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Abstract:

分子离子注入半导体材料是一个有效的降低杂质原子能量,快速行成非晶层的有效方法。用BF_2~+分子离子注入硅中形成的浅结器件可能较B~+原子离子注入更为有益。测定和研究BF_2~+分子离子注入硅后硼原子的深度分布,并与B~+原子离子注入的深度

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