%0 Journal Article
%T BF_2~+分子离子注入硅中的硼原子深度分布的核反应分析研究
%A 廖常庚
%J 科学通报
%D 1989
%I 
%X 分子离子注入半导体材料是一个有效的降低杂质原子能量,快速行成非晶层的有效方法。用BF_2~+分子离子注入硅中形成的浅结器件可能较B~+原子离子注入更为有益。测定和研究BF_2~+分子离子注入硅后硼原子的深度分布,并与B~+原子离子注入的深度
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=01BA20E8BA813E1908F3698710BBFEFEE816345F465FEBA5&cid=7C7E63796F062382A606A3A9833B8C05&jid=B40D4BA57FF46E45205A09B4DC283152&aid=F8AA104E351CBBD2662A6FD7127C62C0&yid=1833A6AA51F779C1&vid=339D79302DF62549&iid=F3090AE9B60B7ED1&sid=6920A1020E13BE87&eid=6920A1020E13BE87&journal_id=0023-074X&journal_name=科学通报&referenced_num=0&reference_num=0