新型金属卟啉共轭聚合物的合成与光电流响应

采用Sonogashira偶联反应，制备了几种以芴或咔唑为间隔基的新型金属卟啉共轭聚合物．这些新型金属卟啉共轭聚合物具有较高的分子量、很好的溶解性和成膜性．其光谱性质和光电流响应结果表明，聚合物中卟啉的含量是影响卟啉聚合物光电流响应的主要因素，且咔唑基团的引入有利于卟啉聚合物光电流的产生．