%0 Journal Article
%T 新型金属卟啉共轭聚合物的合成与光电流响应
%A 赵金玲
%A 李滨松
%A 薄志山
%J 科学通报
%D 2006
%I 
%X 采用Sonogashira偶联反应，制备了几种以芴或咔唑为间隔基的新型金属卟啉共轭聚合物．这些新型金属卟啉共轭聚合物具有较高的分子量、很好的溶解性和成膜性．其光谱性质和光电流响应结果表明，聚合物中卟啉的含量是影响卟啉聚合物光电流响应的主要因素，且咔唑基团的引入有利于卟啉聚合物光电流的产生．
%K 卟啉
%K 共轭聚合物
%K 光电流响应
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=01BA20E8BA813E1908F3698710BBFEFEE816345F465FEBA5&cid=7C7E63796F062382A606A3A9833B8C05&jid=B40D4BA57FF46E45205A09B4DC283152&aid=0B2649222236EC86&yid=37904DC365DD7266&vid=987EDA49D8A7A635&iid=94C357A881DFC066&sid=500A64A3035F6B9C&eid=20ADD38F841C6A4B&journal_id=0023-074X&journal_name=科学通报&referenced_num=0&reference_num=40