MICROSTRUCTURE OF HIGH-TEMPERATURE OXIDATION LAYER OF MOLYBDENUM DISILICIDE
MoSi2高温氧化层的微观结构

采用SEM，TEM和XRD方法研究了MoSi2在1200－1600℃的氧化层微观结构。在1240℃以下，氧化层由SiO2和其它氧化物混合而成，致密度较差。1240－1520℃区间氧化层表面存在针状、扇状或羽状的低温石英，氧化层较薄。在1520℃以上，氧化层中含有块状、粒状或蜂巢状的方石英，氧化层致密而均匀，增强了材料的抗氧化性能。