%0 Journal Article %T MICROSTRUCTURE OF HIGH-TEMPERATURE OXIDATION LAYER OF MOLYBDENUM DISILICIDE
MoSi2高温氧化层的微观结构 %A CHANG Chun %A LI Musen %A CHEN Chuanzhong %A TIAN Leiyan %A
常春 %A 李木森 %A 陈传中 %A 田雷言 %J 金属学报 %D 2003 %I %X 采用SEM,TEM和XRD方法研究了MoSi2在1200-1600℃的氧化层微观结构。在1240℃以下,氧化层由SiO2和其它氧化物混合而成,致密度较差。1240-1520℃区间氧化层表面存在针状、扇状或羽状的低温石英,氧化层较薄。在1520℃以上,氧化层中含有块状、粒状或蜂巢状的方石英,氧化层致密而均匀,增强了材料的抗氧化性能。 %K MoSi2 %K microstructure %K oxidation layer %K ctistobalite
高温氧化层 %K MoSi2 %K 微观结构 %K 方石英 %U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=AB188D3B70B071C57EB64E395D864ECE&jid=B061E1135F1CBDEE96CD96C109FEAD65&aid=A834A3BB67DF0444&yid=D43C4A19B2EE3C0A&vid=7C3A4C1EE6A45749&iid=0B39A22176CE99FB&sid=6FBD78E3BAB60869&eid=B47A0E731AF43EB2&journal_id=0412-1961&journal_name=金属学报&referenced_num=11&reference_num=5