%0 Journal Article
%T MICROSTRUCTURE OF HIGH-TEMPERATURE OXIDATION LAYER OF MOLYBDENUM DISILICIDE<br>MoSi2高温氧化层的微观结构
%A CHANG Chun
%A LI Musen
%A CHEN Chuanzhong
%A TIAN Leiyan
%A <br>常春
%A 李木森
%A 陈传中
%A 田雷言
%J 金属学报
%D 2003
%I 
%X 采用SEM，TEM和XRD方法研究了MoSi2在1200－1600℃的氧化层微观结构。在1240℃以下，氧化层由SiO2和其它氧化物混合而成，致密度较差。1240－1520℃区间氧化层表面存在针状、扇状或羽状的低温石英，氧化层较薄。在1520℃以上，氧化层中含有块状、粒状或蜂巢状的方石英，氧化层致密而均匀，增强了材料的抗氧化性能。
%K MoSi2
%K microstructure
%K oxidation layer
%K ctistobalite<br>高温氧化层
%K MoSi2
%K 微观结构
%K 方石英
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=AB188D3B70B071C57EB64E395D864ECE&jid=B061E1135F1CBDEE96CD96C109FEAD65&aid=A834A3BB67DF0444&yid=D43C4A19B2EE3C0A&vid=7C3A4C1EE6A45749&iid=0B39A22176CE99FB&sid=6FBD78E3BAB60869&eid=B47A0E731AF43EB2&journal_id=0412-1961&journal_name=金属学报&referenced_num=11&reference_num=5