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红外与毫米波学报 2001
XAFS STUDIES ON LOCAL STRUCTURES OF NANOCRYSTALLINE AND CRYSTALLINE GaN ''
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Abstract:
利用XSAFS(X-射线吸收精细结构)方法研究六方的纳为晶和晶体GaN在78K和300K温度下Ga原子的局域配位环境结构,对于第一近邻Ga-N配位,纳米晶GaN的平均增长R、配位数N、热无序度σT和结构无序度σs与晶体GaN的相近,分别为0.194nm、4.0、0.0052nm、0.0007nm;当温度从78K增加到300K,GaN样品中Ga-N配位的σT增加不多,小于0.0005nm,表明第一近邻Ga-N配位的共价键作用力较强,几乎不受温度和晶体状态的影响。对于第二近邻Ga-Ga配位,R为0.318nm,纳米晶GaN的σs(0.0057NM)比晶体GaN的(0.001nm )大0.0047nm;在78K和300K时,纳米晶GsA样品的Ga-Ga位位的σT分别为0.0053nm和0.0085nm,这一结果表明Ga-Ga配位的σT受温度变化产生很大影响,纳米晶GaN中Ga原子的局域配位环境与晶体GaN的差别主要表现在第二近邻Ga-Ga配位的σs相对较大,可能是由于纳米晶GaN内部缺陷及存在较多的表面不饱和配位原子所致。