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ISSN: 2333-9721
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INDIUM DOPING ON MBE GROWN HgCdTe
HgCdTe分子束外延In掺杂研究

Keywords: MBE,HgCdTe,In doping
分子束外延
,HgCdTe,掺杂,,红外焦平面阵列探测器,材料

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Abstract:

报道了用 MBE方法生长掺 In的 n型 Hg Cd Te材料的研究结果 .发现 In作为 n型施主在 Hg Cd Te中电学激活率接近 10 0 % ,其施主电离激活能至少小于 0 .6 m e V.确认了在制备红外焦平面探测器时有必要将掺杂浓度控制在~ 3× 10 1 5 cm- 3水平 .比较了高温退火前后 In在 Hg Cd Te中的扩散行为 ,得出在 40 0℃温度下 In的扩散系数约为10 - 1 4 cm2 / s,并确认了 In原子作为 Hg Cd Te材料的 n型掺杂剂的可用性和有效性 .

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