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ISSN: 2333-9721
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FABRICATION OF Si CONCAVE MICROLENSES ARRAY
凹型Si微透镜阵列的制作

Keywords: Si,concave microlenses array,Ar ion beam etching
Si
,凹微透镜阵列,氩离子束刻蚀,,制作,曲率倒易法

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Abstract:

提出了一种新的曲率倒易法首次成功地在Si衬底上制作出64×256凹柱面折射微透镜阵列,扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面轮廓清晰的凹柱面阵列,表面探针测试结果显示凹微透镜阵列表面光滑、单元重复性好,其平均凹深为2.643μm,凹深非均匀性为8.45%,平均焦距为-47.08μm.

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