全部 标题 作者
关键词 摘要

OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用:99美元

查看量下载量

相关文章

更多...

STUDY OF GSMBE GROWTH AND CHARACTERISTICS OF COMPRESSIVELY STRAINED In 0.63 Ga 0.37 As/InP QUANTUM WELLS
In0.63Ga0.37As/InP压应变量子阱的GSMBE生长及特性研究

Keywords: molecular beam epitaxy,In,x,Ga,1-x,As/InP,quantum wells,photoluminescence
分子束外延,In0.63Ga0.37As/InP,量子阱,光致发光

Full-Text   Cite this paper   Add to My Lib

Abstract:

用GSMBE方法生长出了高质量的具有不同阱宽(l~11nm)的In0.63Ga0.37As/InP压应变量子阱结构材料.通过双晶X射线衍射测量及计算机模拟确定了阱层中的In组份.对材料进行了低温光致发光谱测试,确定了压应变量子阱中的激子跃迁能量.半高宽数值表明,量子阱界面具有原子级的平整度.与7nm和9nm阱所对应的低温光致发光谱峰的半高宽为4.5meV.

Full-Text

Contact Us

service@oalib.com

QQ:3279437679

WhatsApp +8615387084133