铬酸钠溶液中微量铝硅杂质的脱除

采用铝硅含量分别为189.65和51.08 mg/L的铬酸钠配制溶液，通过常压和高压反应脱除杂质微量铝硅. 常压下加入偏铝酸钠调节体系铝硅元素比为6，无需CaO添加剂，60℃下反应40 min，几乎可完全脱除杂质硅；在高压釜中通过调节CO2压力为0.4 MPa，60℃下反应20 min，几乎能完全脱除杂质铝. 化学纯铬酸钠脱除铝硅杂质后能达到分析纯级别. 高压釜内脱铝的同时铬酸钠发生碳化反应，溶液pH值随反应进行逐渐降低，趋于稳定，显示碳化反应近于平衡.