%0 Journal Article
%T 铬酸钠溶液中微量铝硅杂质的脱除
%A 郭为
%A 余志辉
%A 王京刚
%A 曲景奎
%A 齐涛
%A 韩晓英
%J 过程工程学报
%D 2011
%I 
%X 采用铝硅含量分别为189.65和51.08 mg/L的铬酸钠配制溶液，通过常压和高压反应脱除杂质微量铝硅. 常压下加入偏铝酸钠调节体系铝硅元素比为6，无需CaO添加剂，60℃下反应40 min，几乎可完全脱除杂质硅；在高压釜中通过调节CO2压力为0.4 MPa，60℃下反应20 min，几乎能完全脱除杂质铝. 化学纯铬酸钠脱除铝硅杂质后能达到分析纯级别. 高压釜内脱铝的同时铬酸钠发生碳化反应，溶液pH值随反应进行逐渐降低，趋于稳定，显示碳化反应近于平衡.
%K 铬酸钠
%K 偏铝酸钠
%K 脱硅
%K 脱铝
%K 常压
%K 高压
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=3FCF8B1A330466D5&jid=B9EE12934D19905403D996AE65CEEEED&aid=2CF049F8B8CD3710DBFA344D8C183FB0&yid=9377ED8094509821&vid=708DD6B15D2464E8&iid=E158A972A605785F&sid=C7461453A367FC85&eid=65FC738C50B41E43&journal_id=1009-606X&journal_name=过程工程学报&referenced_num=0&reference_num=24