Effects of Anions on Deep Desilication of Sodium Aluminate Solution
阴离子对铝酸钠溶液深度脱硅的影响

研究了不同阴离子(SO42-, CO32-, Cl-)对铝酸钠溶液深度脱硅的影响. 通过对Na2SO4, Na2CO3和NaCl用量、反应温度、时间、Al2O3浓度、溶液苛性比ak、搅拌速度影响的考察，确定了最佳工艺条件. 在95℃, Al2O3 150 g/L, ak=1.5及搅拌速度867 r/min条件下脱硅110 min后，铝酸钠溶液中硅量指数达2938，在杂质用量30 g/L时，含SO42-, CO32-, Cl-溶液的硅量指数分别可达3943, 3545和3221. 在阴离子浓度为0~70 g/L时，SO42-促进溶液深度脱硅，CO32-, Cl-均先促进后抑制脱硅，通过硅渣XRD衍射分析，得到了SO42-, CO32-, Cl-对脱硅影响的变化规律.