%0 Journal Article
%T Effects of Anions on Deep Desilication of Sodium Aluminate Solution<br>阴离子对铝酸钠溶液深度脱硅的影响
%A WANG Ya-jing
%A LI Hong-liang
%A PANG Chang-jian
%A ZHAI Yu-chun
%A ZHANG Zheng
%A <br>王雅静
%A 李宏亮
%A 庞常健
%A 翟玉春
%A 张征
%J 过程工程学报
%D 2011
%I 
%X 研究了不同阴离子(SO42-, CO32-, Cl-)对铝酸钠溶液深度脱硅的影响. 通过对Na2SO4, Na2CO3和NaCl用量、反应温度、时间、Al2O3浓度、溶液苛性比ak、搅拌速度影响的考察，确定了最佳工艺条件. 在95℃, Al2O3 150 g/L, ak=1.5及搅拌速度867 r/min条件下脱硅110 min后，铝酸钠溶液中硅量指数达2938，在杂质用量30 g/L时，含SO42-, CO32-, Cl-溶液的硅量指数分别可达3943, 3545和3221. 在阴离子浓度为0~70 g/L时，SO42-促进溶液深度脱硅，CO32-, Cl-均先促进后抑制脱硅，通过硅渣XRD衍射分析，得到了SO42-, CO32-, Cl-对脱硅影响的变化规律.
%K 铝酸钠溶液
%K 深度脱硅
%K SO42-
%K CO32-
%K Cl-
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=3FCF8B1A330466D5&jid=B9EE12934D19905403D996AE65CEEEED&aid=5704D2E38E2B920F8F782D75638F0E78&yid=9377ED8094509821&vid=708DD6B15D2464E8&iid=0B39A22176CE99FB&sid=1DF3F9D75A12D97B&eid=B78CD622C1934236&journal_id=1009-606X&journal_name=过程工程学报&referenced_num=0&reference_num=21