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光子学报 2008
Approach of High Resolution Diffraction Patterns with DMD Laser Direct Interferential Writing System
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Abstract:
通过将数字微反射镜(Digital Micro-mirror Device,DMD)输入阵列图形微缩干涉成像,激光干涉直写系统在光刻胶板上得到缩小的干涉光斑图形,像素特征尺寸3.5 μm,干涉条纹周期1 μm 控制刻蚀深度、干涉条纹取向和DMD输入图形的结构,系统能数字化完成2D/3D、3D光变图像、超微图形文字以及二元光学元件的制作,实现了超高分辨率图形与高效的干涉光刻.给出了实验结果.
