%0 Journal Article
%T Approach of High Resolution Diffraction Patterns with DMD Laser Direct Interferential Writing System<br>高分辨率衍射图形的DMD并行激光干涉直写
%A WU Zhi-hua
%A WEI Guo-jun
%A ZHOU Xiao-hong
%A SHAO Jie
%A CHEN Lin-sen
%A <br>吴智华
%A 魏国军
%A 周小红
%A 邵洁
%A 陈林森
%J 光子学报
%D 2008
%I 
%X 通过将数字微反射镜(Digital Micro-mirror Device,DMD)输入阵列图形微缩干涉成像,激光干涉直写系统在光刻胶板上得到缩小的干涉光斑图形,像素特征尺寸3.5 μm,干涉条纹周期1 μm 控制刻蚀深度、干涉条纹取向和DMD输入图形的结构,系统能数字化完成2D/3D、3D光变图像、超微图形文字以及二元光学元件的制作,实现了超高分辨率图形与高效的干涉光刻.给出了实验结果.
%K Parallel laser direct writing
%K Binary optical element
%K OVD
%K DMD<br>并行激光直写
%K 二元光学
%K 数字光变图像
%K 数字微反射镜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=9F6139E34DAA109F9C104697BF49FC39&aid=1D1BEC7B26ADF942277E77777AFBA3A9&yid=67289AFF6305E306&vid=42425781F0B1C26E&iid=9CF7A0430CBB2DFD&sid=29A58EDE5D324924&eid=65A936AA46C30FB3&journal_id=1004-4213&journal_name=光子学报&referenced_num=2&reference_num=11