真空方法镀制49号双防保护膜

一 前言 光学仪器在使用和贮存过程中,要受到霉雾等自然环境因素的危害。多年来国内外光学仪器研究工作者对这个问题极为重视。工作作者们研究了许多方法,探索了许多三防性能较好的新材料。目前,据了解,国外研究较多的一种是真空镀膜(又以等离子体聚合和溅射占优势。)美国等西方国家用得较多;二是离心镀膜法,主要苏联用。国外对于液体材料的三防剂如乙烯基三甲氧基硅烷,六甲基二硅氧烷也仅用等离子体聚合,仍