%0 Journal Article
%T 真空方法镀制49号双防保护膜
%A 王岫岩
%J 光子学报
%D 1984
%I 
%X 一 前言 光学仪器在使用和贮存过程中,要受到霉雾等自然环境因素的危害。多年来国内外光学仪器研究工作者对这个问题极为重视。工作作者们研究了许多方法,探索了许多三防性能较好的新材料。目前,据了解,国外研究较多的一种是真空镀膜(又以等离子体聚合和溅射占优势。)美国等西方国家用得较多;二是离心镀膜法,主要苏联用。国外对于液体材料的三防剂如乙烯基三甲氧基硅烷,六甲基二硅氧烷也仅用等离子体聚合,仍
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=9F6139E34DAA109F9C104697BF49FC39&aid=50D53ECE1D117936&yid=36250D1D6BDC99BD&vid=FC0714F8D2EB605D&iid=E158A972A605785F&sid=318E4CC20AED4940&eid=BFE7933E5EEA150D&journal_id=1004-4213&journal_name=光子学报&referenced_num=0&reference_num=0