真空热蒸发法镀制的仿49~#双防保护膜

一、前言 用真空法在光学零件上镀制有机硅双防保护膜,国外采用的工艺是等离子体聚合,所用材料是短链烷基有机硅氧烷单体。我国则主要采取真空热蒸发法工艺,该工艺是长春光机所首先试验的,而所用材料是有机硅聚合物——乙基食氢硅油。我们的研究工作与上述均有所不同——采取真空热蒸发法,用长链烷基有机硅氧烷单体(如49~#光学玻璃防雾剂)进行镀膜。且已成功地应用到产品上。