%0 Journal Article
%T 真空热蒸发法镀制的仿49~#双防保护膜
%A 王岫岩
%J 光子学报
%D 1986
%I 
%X 一、前言 用真空法在光学零件上镀制有机硅双防保护膜,国外采用的工艺是等离子体聚合,所用材料是短链烷基有机硅氧烷单体。我国则主要采取真空热蒸发法工艺,该工艺是长春光机所首先试验的,而所用材料是有机硅聚合物——乙基食氢硅油。我们的研究工作与上述均有所不同——采取真空热蒸发法,用长链烷基有机硅氧烷单体(如49~#光学玻璃防雾剂)进行镀膜。且已成功地应用到产品上。
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=9F6139E34DAA109F9C104697BF49FC39&aid=20D30177CE7BEF2A&yid=4E65715CCF57055A&vid=23CCDDCD68FFCC2F&iid=38B194292C032A66&sid=9971A5E270697F23&eid=933658645952ED9F&journal_id=1004-4213&journal_name=光子学报&referenced_num=0&reference_num=0