STUDY OF PHOTO DAMAGE OF WAVEGUIDE SUBSTRATE OF DOPED LiNbO3 BY m-LINE METHOD
m线法研究掺杂LiNbO3晶体波导基片的光的光损伤

Keywords: m-line method,Doped LiNbO3 waveguide,Photo damage
m线法,波导,光损伤,铌酸锂

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Abstract:

采用m线法研究了掺杂LiNbO3晶体波导基片的光损伤,发现抗光损伤能力依次为Mg:LiNbO3、LiNbO3、Fe:LiNbO3(氧化),Fe:LiNbO3(还原).对于同样材料,质子交换光波导的抗光损伤能力高于钛扩散光波导。

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