%0 Journal Article
%T STUDY OF PHOTO DAMAGE OF WAVEGUIDE SUBSTRATE OF DOPED LiNbO3 BY m-LINE METHOD
m线法研究掺杂LiNbO3晶体波导基片的光的光损伤
%A Xu Shiwen
%A Li Minghua
%A Gao Yuankai
%A Xu Yuheng
%A Yuan Yin
%A Wan Lide
%A
许世文
%A 袁菌
%J 光子学报
%D 1994
%I
%X 采用m线法研究了掺杂LiNbO3晶体波导基片的光损伤,发现抗光损伤能力依次为Mg:LiNbO3、LiNbO3、Fe:LiNbO3(氧化),Fe:LiNbO3(还原).对于同样材料,质子交换光波导的抗光损伤能力高于钛扩散光波导。
%K m-line method
%K Doped LiNbO3 waveguide
%K Photo damage
m线法
%K 波导
%K 光损伤
%K 铌酸锂
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=9F6139E34DAA109F9C104697BF49FC39&aid=5418825CB5A9F0BC1E1B2248EF5F5CB7&yid=3EBE383EEA0A6494&vid=EA389574707BDED3&iid=0B39A22176CE99FB&sid=E114CF9BB47B65BE&eid=DD74772618543076&journal_id=1004-4213&journal_name=光子学报&referenced_num=0&reference_num=4