%0 Journal Article %T STUDY OF PHOTO DAMAGE OF WAVEGUIDE SUBSTRATE OF DOPED LiNbO3 BY m-LINE METHOD
m线法研究掺杂LiNbO3晶体波导基片的光的光损伤 %A Xu Shiwen %A Li Minghua %A Gao Yuankai %A Xu Yuheng %A Yuan Yin %A Wan Lide %A
许世文 %A 袁菌 %J 光子学报 %D 1994 %I %X 采用m线法研究了掺杂LiNbO3晶体波导基片的光损伤,发现抗光损伤能力依次为Mg:LiNbO3、LiNbO3、Fe:LiNbO3(氧化),Fe:LiNbO3(还原).对于同样材料,质子交换光波导的抗光损伤能力高于钛扩散光波导。 %K m-line method %K Doped LiNbO3 waveguide %K Photo damage
m线法 %K 波导 %K 光损伤 %K 铌酸锂 %U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=9F6139E34DAA109F9C104697BF49FC39&aid=5418825CB5A9F0BC1E1B2248EF5F5CB7&yid=3EBE383EEA0A6494&vid=EA389574707BDED3&iid=0B39A22176CE99FB&sid=E114CF9BB47B65BE&eid=DD74772618543076&journal_id=1004-4213&journal_name=光子学报&referenced_num=0&reference_num=4