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Keywords: Lithography Technology,Distortion Detect光刻,畸变检测
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畸变特性是光刻物镜的关键指标,目前少有报道,提出了一种大视场投影光刻物镜畸变测量原理,测量系统和测量数据的处理方法.利用该装置对研制的口径6英寸,分辨率3μm的物镜进行了测量,得出该物镜在全视场的畸变值小于2.0μm。
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