%0 Journal Article
%T Distortion Detect of Large Field Projection Lithography Lens<br>大视场投影光刻物镜的畸变特性检测
%A 马韬
%A 沈亦兵
%J 光子学报
%D 2005
%I 
%X 畸变特性是光刻物镜的关键指标，目前少有报道，提出了一种大视场投影光刻物镜畸变测量原理，测量系统和测量数据的处理方法．利用该装置对研制的口径6英寸，分辨率3μm的物镜进行了测量，得出该物镜在全视场的畸变值小于2．0μm。
%K Lithography Technology
%K Distortion Detect<br>光刻
%K 畸变检测
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=9F6139E34DAA109F9C104697BF49FC39&aid=B67409291A1DEF39&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=339D79302DF62549&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=D997634CFE9B6321&eid=2A3781E88AB1776F&journal_id=1004-4213&journal_name=光子学报&referenced_num=8&reference_num=5