A NEW TECHNOLOGY FOR CHEMICAL POLISHING OF COPPER IN WEAK ALKALINE SOLUTION
弱碱性条件下紫铜化学抛光新工艺

Keywords: copper,weak alkaline solution,brightener,corrosion inhibitor,surfactant
紫铜,弱碱性溶液,光亮剂,缓蚀剂,表面活性剂

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Abstract:

开发出了弱碱性溶液中紫铜化学抛光新工艺,确定了抛光液中的光亮剂(包括缓蚀剂和表面活性剂).经过一系列正交实验,获得了最佳工艺条件,并分析了影响抛光效果的各种因素.该工艺抛光速度快、腐蚀性低、环境污染小、成本低.

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