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材料研究学报 1996
COMPUTER SIMULATION ON THE DEPOSITION-DIFFUSION PROCESS IN F_e-65_(mg)·g~(-1) Si ALLOY THIN RIBBONKeywords: 软磁合金,扩散法,计算机模拟,铁硅合金,薄带 Abstract: 沉积-扩散法是制备特殊的有效方法之定,用计算机模拟研究了沉积-扩散生产Fe-65mg.g^-1Si合金薄带的工业可行性及热处理工艺条件(温度、1气体浓度、时间等)的影响,计算结果表明:沉积-扩散法制造工业用Fe-65mg.g^-1Si合金薄带是完全可行的;二步扩散较单步扩散明显缩短生产时间。
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