%0 Journal Article
%T COMPUTER SIMULATION ON THE DEPOSITION-DIFFUSION PROCESS IN F_e-65_(mg)·g~(-1) Si ALLOY THIN RIBBON
%A 王沿东
%A 徐家桢
%A 左良
%A 梁志德
%J 材料研究学报
%D 1996
%I 
%X 沉积－扩散法是制备特殊的有效方法之定，用计算机模拟研究了沉积－扩散生产Ｆｅ－６５ｍｇ．ｇ＾－１Ｓｉ合金薄带的工业可行性及热处理工艺条件（温度、１气体浓度、时间等）的影响，计算结果表明：沉积－扩散法制造工业用Ｆｅ－６５ｍｇ．ｇ＾－１Ｓｉ合金薄带是完全可行的；二步扩散较单步扩散明显缩短生产时间。
%K 软磁合金
%K 扩散法
%K 计算机模拟
%K 铁硅合金
%K 薄带
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=C101C4C04993B4D94FCD8446E6CBEB3B&aid=ACE077AFE2E0E40036C544AE14A9E904&yid=8A15F8B0AA0E5323&vid=F3090AE9B60B7ED1&iid=0B39A22176CE99FB&sid=F122871CC7EC92DC&eid=28F8B56DB6BEE30E&journal_id=1005-3093&journal_name=材料研究学报&referenced_num=0&reference_num=1