%0 Journal Article %T COMPUTER SIMULATION ON THE DEPOSITION-DIFFUSION PROCESS IN F_e-65_(mg)·g~(-1) Si ALLOY THIN RIBBON %A 王沿东 %A 徐家桢 %A 左良 %A 梁志德 %J 材料研究学报 %D 1996 %I %X 沉积-扩散法是制备特殊的有效方法之定,用计算机模拟研究了沉积-扩散生产Fe-65mg.g^-1Si合金薄带的工业可行性及热处理工艺条件(温度、1气体浓度、时间等)的影响,计算结果表明:沉积-扩散法制造工业用Fe-65mg.g^-1Si合金薄带是完全可行的;二步扩散较单步扩散明显缩短生产时间。 %K 软磁合金 %K 扩散法 %K 计算机模拟 %K 铁硅合金 %K 薄带 %U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=C101C4C04993B4D94FCD8446E6CBEB3B&aid=ACE077AFE2E0E40036C544AE14A9E904&yid=8A15F8B0AA0E5323&vid=F3090AE9B60B7ED1&iid=0B39A22176CE99FB&sid=F122871CC7EC92DC&eid=28F8B56DB6BEE30E&journal_id=1005-3093&journal_name=材料研究学报&referenced_num=0&reference_num=1