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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
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Molecular beam epitaxy growth of InGaSb/AlGaAsSb strained quantum well diode lasers
2μm InGaSb/AlGaAsSb应变量子阱激光器的MBE生长研究

Keywords: InGaSb,AlGaAsSb,strained quantum wells,Te doped
分子束外延生长
,应变量子阱,激光二极管,原子力显微镜,最佳生长温度,最佳掺杂浓度,X射线衍射,生长参数

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摘要:对InGaSb/AlGaAsSb应变量子阱和GaSb接触层掺Te的MBE生长进行了研究。通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)设备、光致发光谱(PL)测试,对应变量子阱的生长参数进行了优化。量子阱室温PL测试,发光波长为1.98 μm,半峰宽为115nm。通过Hall测试优化了GaSb外延掺Te的生长参数,最优的掺杂浓度为1.1271018 cm-3,电阻率为5.29510-3Ω?cm。

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