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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
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A Submicron InGaAs/InP Heterojunction Bipolar Transistor with ft of 238GHz
截止频率为238GHz的亚微米InGaAs/InP异质结双极晶体管

Keywords: InP,heterojunction bipolar transistor,planarization,high frequency
InP
,异质结构双极晶体管,平坦化,高频

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Abstract:

研制成功了一种无微空气桥的亚微米InP基异质结双极晶体管(HBT) . 发展了小于100nm的发射极侧向腐蚀工艺,实现了亚微米的InP基HBT. 发射极宽度的减小有效提高了频率特性,发射极面积为0.8μm×15μm的HBT的电流增益截止频率达到了238GHz. 发展了基极-集电极的侧向过腐蚀工艺,有效减小了结面积,提高了最大振荡频率. Kirk电流密度达到了3.1mA/μm2. 据我们所知,电流增益截止频率是目前国内三端器件中最高的,Kirk电流密度是国内报道的HBT中最高的. 这对于HBT器件在超高速电路中的应用具有十分重要的意义.

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