|
OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
|
|
|
|
Fabrication of High-Density Transmission Gratings for X-Ray Diffraction
高线密度X射线透射光栅的制作工艺
Zhu Xiaoli, Ma Jie, Cao Leifeng, Yang Jiamin, Xie Changqing, Liu Ming, Chen Baoqin, Niu Jiebin, Zhang Qingzhao, Jiang Ji, Zhao Min, Ye Tianchun,
朱效立, 马杰, 曹磊峰, 杨家敏, 谢常青, 刘明, 陈宝钦, 牛洁斌, 张庆钊, 姜骥, 赵珉, 叶甜春
Keywords: transmission gratings,electron beam lithography,X-ray lithography,X-ray diffractive optical elements
电子束光刻,透射光栅,X射线光刻,X射线衍射光学元件
Abstract:
采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5 mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅.首先利用电子束光刻和微电镀技术制备基于镂空薄膜结构的X射线光刻掩模,然后利用X射线光刻经济、高效地复制X射线透射光栅.整个工艺流程分别利用了电子束光刻分辨率高和X射线光刻效率高的优点,并且可以得到剖面陡直的纳米级光栅线条.最后,测量了制作出的X射线透射光栅对波长为11nm同步辐射光的衍射峰,实验结果表明该光栅具有良好的衍射特性. Full-Text
|
|
Contact Us
service@oalib.com QQ:3279437679 
WhatsApp +8615387084133
|
|
