%0 Journal Article
%T Fabrication of High-Density Transmission Gratings for X-Ray Diffraction<br>高线密度X射线透射光栅的制作工艺
%A Zhu Xiaoli
%A Ma Jie
%A Cao Leifeng
%A Yang Jiamin
%A Xie Changqing
%A Liu Ming
%A Chen Baoqin
%A Niu Jiebin
%A Zhang Qingzhao
%A Jiang Ji
%A Zhao Min
%A Ye Tianchun
%A <br>朱效立
%A 马杰
%A 曹磊峰
%A 杨家敏
%A 谢常青
%A 刘明
%A 陈宝钦
%A 牛洁斌
%A 张庆钊
%A 姜骥
%A 赵珉
%A 叶甜春
%J 半导体学报
%D 2007
%I 
%X 采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5 mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅.首先利用电子束光刻和微电镀技术制备基于镂空薄膜结构的X射线光刻掩模,然后利用X射线光刻经济、高效地复制X射线透射光栅.整个工艺流程分别利用了电子束光刻分辨率高和X射线光刻效率高的优点,并且可以得到剖面陡直的纳米级光栅线条.最后,测量了制作出的X射线透射光栅对波长为11nm同步辐射光的衍射峰,实验结果表明该光栅具有良好的衍射特性.
%K transmission gratings
%K electron beam lithography
%K X-ray lithography
%K X-ray diffractive optical elements<br>电子束光刻
%K 透射光栅
%K X射线光刻
%K X射线衍射光学元件
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=231E8B3DA1BFE7AFD8E3622489DFC41B&yid=A732AF04DDA03BB3&vid=D3E34374A0D77D7F&iid=59906B3B2830C2C5&sid=37904DC365DD7266&eid=140ECF96957D60B2&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=13