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ISSN: 2333-9721
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不同偏置电压下SiGe HBT Early电压的理论研究

Keywords: 锗化硅,HBT,应变层,Early电压

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Early电压VA和直流增益β是双极器件在模拟电路中应用的重要参数,本文研究了在器件不发生大注入效应和雪崩倍增效应的条件下,SiGeHBT中基区Ge含量以及VCE对器件的Early电压VA的影响,并用数值计算的方法得到了在其它参数相同的情况下,器件的Early电压VA随基区中Ge含量和偏置电压VCE的变化规律,表明Early电压VA是随VCE和Ge含量的增加而增加的.这些结果对SiGeHBT在模拟集成电路中的设计和应用提供了指导.

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