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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
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Preparation of AlSb Polycrystalline Thin Films by Co-Evaporation
用共蒸发法制备AlSb多晶薄膜
Yao Feifei, Lei Zhi, Feng Lianghuan, Zhang Jingquan, Li Wei, Wu Lili, Cai Wei, Cai Yaping, Zheng Jiagui, and Li Bing,
姚菲菲, 雷智, 冯良桓, 张静全, 李卫, 武莉莉, 蔡伟, 蔡亚平, 郑家贵, 黎兵
Keywords: AlSb,anneal,polycrystalline thin films
AlSb,退火,多晶薄膜,共蒸发法,法制,多晶薄膜,Thin,Films,Polycrystalline,材料,太阳电池,结果,电导激活能,光能隙,间接跃迁,立方相,退火处理,发现,光学和电学性质,结构,研究,方法,温度关系,暗电导
Abstract:
采用元素共蒸发法结合退火处理制成了AlSb多晶薄膜.利用x射线衍射、透射光谱、暗电导温度关系等方法研究了薄膜的结构、光学和电学性质.发现540℃退火后得到的AlSb多晶薄膜呈立方相结构,间接跃迁光能隙为1.62eV,电导激活能约为0.33eV.研究结果表明,AlSb薄膜有可能成为新型太阳电池的重要材料. Full-Text
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