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Keywords: 单晶拉制,硅,热施主,热处理
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本文研究了快速热处理退除热施主态的丁艺,及450℃、1小时热处理施主的再生问题.结果表明快速热处理是一种有效的退除热施主的方法,其效果与常规650℃、2小时处理相同.450℃、1小时处理没有热施主再生现象发生.
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