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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
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Investigation on Mechanism of Oxidized Au/Ni/p-GaN Ohmic Contact
氧化Au/Ni/p-GaN欧姆接触形成的机理

Keywords: p-GaN,Ni/Au,specific contact resistance,synchrotron XRD,RBS
p型氮化镓
,镍/金,比接触电阻,同步辐射,卢瑟福背散射

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Abstract:

用卢瑟福背散射(RBS)和同步辐射X射线衍射(XRD)研究了p-GaN上的Ni/Au电极在空气下不同温度合金后的微结构的演化,并揭示这种接触结构的欧姆接触形成机制.研究不同温度下比接触电阻(ρc)的变化,发现从450℃开始Au扩散到GaN的表面在p-GaN上形成外延结构以及O向电极内部扩散反应生成NiO对降低ρc起到了关键的作用.在500℃时,Au的外延结构进一步改善,O进一步向样品内部扩散生成NiO,ρc也达到了最低值.但当合金温度升高到600℃时,金属-半导体界面NiO的大部分或全部向外扩散,从而脱离与p-GaN的接触,使ρc显著升高.

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