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Keywords: Cold emitted electron beam,Doping,Super-shallow junction冷发射电子束,掺杂,磷,集成电路
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一种新的冷发射电子束掺杂方法已研究成功。这种方法可实现高浓度(C_(max)=2.8×10~(20)/cm~3),超浅结(x_j)_(min)≤0.1μm],而且损伤比离子注入的小得多。用这种方法制备的太阳能电池控制器件性能很好。
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