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Keywords: 半导体,碳化硅,硅基纳米,微结构
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在室温下将C+注入硅衬底,注入能量和剂量分别为50keV,2×1016cm-2.经高温退火形成,β-SiC颗粒沉淀.用傅里叶变换红外吸收谱,光电子能谱以及高分辨率透射电镜对注入样品中的纳米β-SiC及其微结构作了分析.
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