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ISSN: 2333-9721
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硅基纳米SiC的制备及其微结构分析

Keywords: 半导体,碳化硅,硅基纳米,微结构

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Abstract:

在室温下将C+注入硅衬底,注入能量和剂量分别为50keV,2×1016cm-2.经高温退火形成,β-SiC颗粒沉淀.用傅里叶变换红外吸收谱,光电子能谱以及高分辨率透射电镜对注入样品中的纳米β-SiC及其微结构作了分析.

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