Effects of Oxygen Treatment on Interface Character istics and Composition of Nitrided-Oxide
氧处理对氮氧化膜界面特性和组分的影响

Keywords: Oxide,Nitride,Interface state,Defect,Breakdown voltage
氮氧化膜,界面态,氧处理,组分

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Abstract:

实验结果表明,利用O_2 /N_2的低分压再氧化和中间氧化,以及利用O_2/NH_3的掺氧再氮化均能有效地改善氮氧化膜的界面特性,而其优异的电击穿特性则得以保持或稍有改善。在三种氧处理方法中,中间氧化的效果较显著,而掺氧再氮化则呈现较低的抗氧化能力。

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