Experimental Investigation of Laser Chemical Vapor Deposition of Tungsten on Si and TiN
钨在硅和氮化钛上的激光化学汽相沉积实验研究

Keywords: Laser chemical vapor dep(?)sition,Tungsten,Silicon,Titanium nitride
硅,TiN,薄膜,激光化学,汽相沉积,钨

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Abstract:

本文介绍了用激光化学汽相沉积的方法在Si和TiN基板上沉积钨的实验研究。沉积过程由反射率探测法实时监测,实验结果表明:钨的沉积速率依赖于WF_6和H_2的比例、压力、激光功率和基板的物理性质。实验得到了3μm宽的钨膜。

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