%0 Journal Article
%T Experimental Investigation of Laser Chemical Vapor Deposition of Tungsten on Si and TiN<br>钨在硅和氮化钛上的激光化学汽相沉积实验研究
%A Zhou Yimin/
%A <br>周一敏
%A 孙迭篪
%A 李富铭
%A 杜元成
%A 王海
%J 半导体学报
%D 1990
%I 
%X 本文介绍了用激光化学汽相沉积的方法在Si和TiN基板上沉积钨的实验研究。沉积过程由反射率探测法实时监测,实验结果表明:钨的沉积速率依赖于WF_6和H_2的比例、压力、激光功率和基板的物理性质。实验得到了3μm宽的钨膜。
%K Laser chemical vapor dep(?)sition
%K Tungsten
%K Silicon
%K Titanium nitride<br>硅
%K TiN
%K 薄膜
%K 激光化学
%K 汽相沉积
%K 钨
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=EFB7721E4E92A77C&yid=8D39DA2CB9F38FD0&vid=708DD6B15D2464E8&iid=708DD6B15D2464E8&sid=E348995F86F60FD3&eid=745C7FAEA69986C7&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=1