Method for Fabricating Submicron Spaces
一种制作亚微米间隔的方法

Keywords: Submicron technique,Chemical etching,Josephon junction
亚微米技术,化学刻蚀,约瑟夫逊结

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Abstract:

本文研究了利用光刻图形转移过程中,湿法化学刻蚀存在的侧向钻蚀,通过对钻蚀程度的控制获得小于0.5μm的线条间隔.

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