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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
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Ion-Beam Exposure Characteristics of PMMA
PMMA的离子束曝光特性

Keywords: Ion beam,Exposure,Resist sensitivity,Polymer,Energy deposition,Ion range,Energy loss
离子束
,曝光,抗蚀剂,灵敏度,PMMA

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Abstract:

用B~+、F~+离子束曝光PMMA,实验得到灵敏度为(1-8)×10~(12)离子/厘米~2,饱和曝光深度t由能量损失的深度分布范围决定,且t≌R_p+2△R_p,阈值能量8_m=(30-330)焦耳/厘米~3,并估算了本实验条件下离子束曝光PMMA的分辨率d~(25-100)纳米.XPS分析结果表明,在剂量D>1×10~(13)离子/厘米~2时,PMMA表层中含氧量才显著减少,由此推想在离子束曝光常用剂量范围内,PMMA发生降解反应时并不伴随含氧侧基的脱落.

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